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軟性復合硅微粉的生產工藝
編輯:連云港奧斯特硅微粉有限公司   發布時間:2019-11-11

    下面小編講講軟性復合硅微粉的生產工藝:

    軟性復合硅微粉是以天然石英和其他無機非金屬礦物為原料,經過復配、熔融、冷卻、破碎、研磨、分級等工序加工而成的玻璃相二氧化硅粉體材料。

    適用范圍:用于CCL/EMC(覆銅板專用)、有機硅、橡膠、塑料等復合的填料。LED封裝用光擴散劑,油漆的消光劑、PET、PMMA、PP等塑料改性劑。

    常用規格:3-4um、4-5um(um為微米單位)

    主要規格:3750-5000目、3000-3750目(以目為單位)。

    三氯氫硅法將干燥的硅粉加入合成爐中,與通入的干燥氯化氫氣體在280~330℃有氯化亞銅催化劑存在下進行氯化反應,反應氣體經旋風分離除去雜質,再用氯化鈣冷凍鹽水將氣態三氯氫硅冷凝成液體,經粗餾塔蒸餾和冷凝,除去高沸物和低沸物,再經精餾塔蒸餾和冷凝,得到精制三氯氫硅液體。純度達到7個“9”以上、雜質含量小于1×10-7,硼要求在0.5×10-9以下。提純后的三氯氫硅送入不銹鋼制的還原爐內,用超純氫氣作還原劑,在1050~1100℃還原成硅,并以硅芯棒為載體,沉積而得多晶硅成品。

    用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合,加熱到1900℃左右進行還原。此方法制得的硅純度為97%~98%,被稱作金屬硅。再將金屬硅融化后進行重結晶,用酸除去雜質,得到純度為99.7%~99.8%的金屬硅。如要將它做成半導體用硅,還要將其轉化成易于提純的液體或氣體形式,再經蒸餾、分解過程得到多晶硅。如需得到高純度的硅,則需要進行進一步的提純處理。

    用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合,用1000~3000kVA開式電弧爐,加熱到1900℃左右進行還原。

    以上是小編給大家簡述的軟性復合硅微粉的生產工藝,大家可以簡單的了解看看。內容僅供參考,需要咨詢的可以聯系我們。


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